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电子工业超纯水系统工艺流程及方案设计

文章出处:作者:发表时间:2013-03-15 15:27:34

  一、电子电镀超纯水应用范围概述:

  电解电容器生产铝箔及工作件的清洗电子管生产电子管阴极涂敷碳酸盐配液显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水液晶显示器的生产屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片等。

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  二、电镀超纯水设备典型工艺流程

  预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ。CM)(传统工艺)

  预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ。CM)(新工艺)

  预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ。CM)(新工艺)

  预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0。2或0。5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ。CM)(新工艺)

  处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ。CM)(传统工艺)

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